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同花顺（300033）金融研究中心10月28日讯，有投资者向钢研纳克（300797）提问， 高通量（场发射）扫描电镜，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。以半导体领域为例：半导体工艺线宽从100nm量级到至今的5nm，工艺制程中的缺陷检测也变的至关重要。半导体元器件进行失效分析往往需要采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。扫描电镜分辨率高（纳米级），景深大而且可以从几十倍到几千倍连续扩大，是半导体材料研究和分析的重要工具。请问这高通量电镜是真的这麽厉害吗？

公司回答表示，投资者您好，高通量（场发射）扫描电镜是扫描电镜技术的一个比较新的技术分支。最早应用在半导体产线上的电子束晶圆检测设备（EBI），从发明到现在已经在半导体产线中被成功应用于在线检测设备超过20年。近些年慢慢开始被应用到非半导体领域，如材料表征、生命科学的组织结构观测等等。虽然其有着比较大的速度优势，但是由于技术比较新，适用条件比较严苛，在应用到其他领域时也存在诸多限制，需要持续的技术升级与改进。感谢您的关注！

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标签： 扫描电镜 至关重要 技术比较